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苏大维格 上海微电子核心关键器件供应商
股市长牛
2022-08-04 15:45:20

苏大维格:在光刻机关键器件方面,公司向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅部件

每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问: 尊敬的董秘,您好!苏大维格官网显示,iGrapher系列设备已用于4寸~8寸MEMS制备、17寸-65寸精密电路制备的工业应用。请问贵公司的光刻设备能否用于精密电路和MEMS的大规模制备?有没有提供给PCB或者MEMS制造厂商?

苏大维格(300331.SZ)3月21日在投资者互动平台表示,公司激光直写光刻机具体应用包括柔性电子、MEMS以及特定领域半导体比如半导体功率芯片等产品的研发与制造。公司光刻设备整机除自用及向国内外高校及科研院所销售外,2021年开始向企业拓展,并成功实现了对半导体领域企业的销售;在光刻机关键器件方面,公司向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅部件。

目前高端光刻机晶圆台的亚纳米级定位需求中,光栅干涉测量具有较大优势,测量分辨率可达17pm,长期测量稳定性可达0.22nm,采用先进的二维平面光栅可以实现空间六自由度测量,是14nm及以下光刻工艺制程的重要技术路线。其中需要突破的关键技术包括多自由度与绝对式测量原理、大面积二维平面计量光栅的制作与表征、大规模并行数据的同步处理等。其次,围绕评价多层光刻工艺之间对准、监控光刻工艺良率的关键参数“套刻误差”,基于衍射技术的套刻测量技术(DBO)具有亚纳米级的测量精度,逐渐成为14nm以下制程高端光刻机的套刻误差测量中有竞争力的技术路线。但是DBO技术路径的完善,还面临测量精度稳定性提升、测量量值的溯源技术、测量效率的提升等技术与工程难题。

 

 
六自栅编码器(左)、双层叠加光栅套刻误差DBO衍射测量示意图

光子芯片领域苏大维格:您好,公司与高伟电子合作成立的合资公司“苏州立维光学科技有限公司”已完成工商注册程序,目前产线建设等工作正在有序推进中;公司与高伟电子合作领域包括多种光子芯片。光电子器件从研发到批量化生产,再到终端客户的验证与应用一般需要较长周期,后续进展请您关注公司相关公告,谢谢! 

汽车领域  苏大维格在互动平台表示,公司开发了基于衍射光波导技术的AR-HUD方案,与现阶段大量采用的几何光学HUD方案相比,公司衍射光波导技术的AR-HUD方案具有更大的FOV、更远的投射距离(大于15米),更小的体积(小于3L),在应用上有更大的灵活性。目前公司正在积极与行业领先的智能汽车系统方案商以及相关产业方接洽,推动合作方案,搭建相关平台,推进相关技术的产业化工作。

AR/VR领域     每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:公司在年报路演中披露:公司裸眼3D显示领域、AR/VR 显示、AR-HUD、大面积指纹识别等领域进行了专利与产业化布局,部分领域已经开始与下游厂商合作进行产线建设等工作,请问具体在什么领域与哪几个厂商进行产线建设?产线是中试产线还是量产产线?预计产能多少?大约何时建成投产?

  苏大维格(300331.SZ)5月31日在投资者互动平台表示,在裸眼3D显示领域,公司与华星光电合作推出的全新裸眼3D显示屏(向量光场全息3D显示器)在2021年TCL华星全球显示生态大会(DTC2021)中首次亮相展出,后续合作正在顺利推进;在AR/VR等领域,公司与高伟光学合作成立了合资公司,共同推进DOE/TOF、VR/AR、光子芯片等先进技术的产业化工作。目前,公司与高伟光学合资公司已设立完成,人员配置、技术研发、产品开发、产线建设等工作正根据投资计划有序推进中,详细情况请您关注后续进展。公司作为项目牵头承担单位,苏州大学、武汉华星光电技术有限公司等多家单位共同参与的裸眼3D领域的“超薄宽视角向量光场显示技术与系统”项目已获批立项,并签订了国家重点研发计划项目任务书。近日,公司收到国家科技部通知,该项目任务书已完成签章,进入启动程序。 

苏大维格公告,公司实际控制人、部分董事、高级管理人员、中层管理人员及核心骨干近期分别与相关方签订了相关基金合同,拟通过契约型基金在深圳证券交易所证券交易系统以集中竞价的方式增持公司股票。本次增持规模不低于5,000万元,其中,部分中层管理人员及核心骨干已增持2,355.50万元(共计1,527,300股);实际控制人和参加增持的董事、高级管理人员拟在公告日起6个月内,增持不低于2,644.50万元,增持价格不超过30元/股。

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苏大维格
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张江高科
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  • 只看TA
    2022-08-04 22:36
    光刻机叠加今天vrar消息
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  • 只看TA
    2022-08-04 17:10
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