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新股申购建议之:中船特气 688146【2023年4月11日申购】
盘前七点半(小号)
散户
2023-04-10 13:26:34

 

一、主营业务

发行人是国内领先、世界知名的电子特种气体和三氟甲磺酸系列产品供应商, 是国务院国资委“双百行动”综合改革、国家发改委混合所有制改革试点企业,是 集科研、生产、销售、服务于一体,拥有核心自主知识产权的高新技术企业。发行 人主要从事电子特种气体及三氟甲磺酸系列产品的研发、生产和销售,主要产品包 括高纯三氟化氮、高纯六氟化钨、高纯氯化氢、高纯氟化氢、高纯四氟化硅、高纯 氘气、高纯六氟丁二烯、高纯八氟环丁烷、高纯电子混合气等电子特种气体,以及 三氟甲磺酸、三氟甲磺酸酐、双(三氟甲磺酰)亚胺锂等含氟新材料。发行人产品 广泛应用于集成电路、显示面板、锂电新能源、医药、光纤等行业,是上述产业发 展不可或缺的关键性材料。经过多年发展和积累,公司目前已经具备电子特种气体 及含氟新材料等 50 余种产品的生产能力,成为行业内产业规模大、客户覆盖广、 创新能力强且具备参与全球竞争能力的头部企业。


二、发行人主要产品

(1)主要气体

 ①三氟化氮 

发行人生产的高纯三氟化氮主要应用于大规模集成电路和显示面板等制造 过程中的清洗、刻蚀工艺,具有良好的选择性、蚀刻速率,纯度一般需要达到 4N。发行人已实现 5N 级三氟化氮的量产,同时已建成国内最大生产基地。凭借 优异的产品品质,发行人多年来稳定供应台积电、美光、海力士、中芯国际、长 江存储、京东方、LGD 等境内外集成电路和显示面板知名客户,在业内树立了 技术领先、产品优质、客户信赖的品牌形象。

 ②六氟化钨 

发行人生产的高纯六氟化钨主要应用于大规模集成电路化学气相沉积工艺, 其沉积形成的钨导体膜可用作通孔和接触孔的互连线,具有低电阻、高熔点的特 点,纯度一般需要达到 5N。发行人已实现 6N 级六氟化钨的量产,同时拥有国 内最大生产基地。凭借优异的产品品质,发行人多年来稳定供应台积电、铠侠、 美光、海力士、中芯国际、长江存储等境内外集成电路知名客户,客户覆盖广泛。 

(2)无机类气体 

发行人生产的无机类气体主要包括氟化氢、氯化氢、四氟化硅、氘气等气体。 其中,氯化氢和氟化氢纯度分别可达 5N5 和 5N,主要应用于大规模集成电路清 洗、刻蚀工艺;四氟化硅纯度可达 5N,主要应用于大规模集成电路制造中有机 硅化合物的合成、离子注入工艺掺杂剂及化学气相沉积工艺;氘气纯度可达 5N, 氘同位素丰度 2N8 以上,主要用作集成电路热处理,以及在光纤制造领域抗老 化退火处理,提高抗氢老化能力。 

(3)混合气 

发行人生产的混合气主要应用于大规模集成电路和显示面板制造过程中的 光刻、退火等多个工艺。发行人基于自身掌握的纯化和混配技术,混合气产品组 分纯度可达 6N,结合客户的个性化需求,目前已实现 30 余种电子混合气的量产 供应。 

(4)碳氟类气体 

发行人生产的碳氟类气体主要有六氟丁二烯、八氟环丁烷、八氟丙烷、六氟 乙烷等气体。六氟丁二烯主要应用于大规模集成电路先进制程的刻蚀工艺,与传 统刻蚀气体相比,六氟丁二烯刻蚀速率更快、选择性和深宽比更高、环境更友好, 在先进制程中应用前景广阔。发行人生产的六氟丁二烯产品纯度达 4N,产品已 进入客户验证阶段;八氟环丁烷、八氟丙烷、六氟乙烷等高纯碳氟类气体,纯度 均可达 5N,主要应用于大规模集成电路制造领域的等离子刻蚀和清洗工艺。

 2、三氟甲磺酸系列产品

 基于电解氟化工艺,发行人研发生产了三氟甲磺酸系列产品,如三氟甲磺酸、 三氟甲磺酸三甲基硅酯、三氟甲磺酸酐、双(三氟甲磺酰)亚胺锂、三氟甲磺酸 锂等,具体情况如下:

 


三、主营业务收入

 


四、募集资金用途

 


五、竞争对手

 

 


六、可比上市公司估值水平比较

 


七、主要财务数据及财务指标

 

 


所含数据及估值区间

 

如果按照行业市盈率(静态不扣非)30.59倍给出估值。目标价19.7元,较上市首日溢价-83%

如果按照行业市盈率(动态不扣非)30.59给出估值。目标价21.47元,较上市首日溢价-68%

如果按照可比公司21年静态市盈率62.04倍给出估值。目标价39.95元,较上市首日溢价10%

如果按照可比公司22年动态市盈率50.26倍给出估值。(扣非)目标价35.28元,较上市首日溢价-2%。(不扣非)38.5元,较上市首日溢价6%。

 

综上所述,本次发行价格36.15元/股,高于中证指数有限公司发布的发行人所处行业最近一个月平均静态市盈率,低于同行业可比公司静态市盈率平均水平。价区间为19.7-39.95元

申购建议:发行PE适中溢价率适中,发行价格较高,流通市值较高,炒作价值适中,可以申购


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