光刻机对芯片制造的重要性，想必大家都有所了解，而掩膜版就是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版。掩膜版（Photomask）又称为光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，由制造商通过光刻制版工艺将电路图刻制于基板上制作而成，主要作用体现为利用已设计好的图案，通过透光与非透光方式进行电路图形复制，从而实现芯片的批量生产。

近些年国内 FPD 需求持续增长，但是能够配套 FPD 掩膜版的国产供应商少之又少，以路维光电和清溢光电为首，主要针对 G8.5 以下的掩膜版。AMOLED、 Grey-tone、Half-tone 等掩膜版基本依赖进口。

中国 FPD掩膜版的需求占全球的52%。清溢光电主要聚焦在 G8.5及以下，而路维光电在 G11超高世代的细分领域颇具规模，以 13.97%的市占率位居全球第四名。

掩膜版的材料成本在半导体中占比可到13%远高于5%的光刻胶，其实高端掩膜版的渗透率，我们国家是低于光刻胶的，前景也更加广阔！

黄仁勋介绍一块GPU就要89块掩膜版,人工智能的大爆发，让掩膜版行业驶入快车道，前景也更加广阔。

目前路维光电已实现250nm制程半导体掩膜版量产，并掌握180nm/150nmIC掩膜版制造核心技术，且已有技术可覆盖第三代半导体相关产品。公司募投项目将进一步推进量产能力向130nm制程提升，同时制造技术将向110nm/90nm/65nm发展，国产替代进程有望加速，现有的半导体掩膜版制造技术覆盖第三代半导体相关产品。

$路维光电(SH688401)$ $世纪华通(SZ002602)$