设备国产化趋势继续推进
夜长梦山
2023-10-18 08:36:59
【国海电子 葛星甫团队#何理】制裁落地，预估1980系列DUV采购不受限制，设备国产化趋势继续推进，坚定看好设备板块投资机会！
事件
2023年10月17日，美国商务部发布半导体设备出口管制临时最终规则（IFR），细化了2022年10月7日的出口管制方案并对公众提交的意见进行回复。IFR进一步规范了对于先进制程半导体设备适用场景、结构参数、限制形式描述等细节。
国海电子观点
[烟花]我们认为本次制裁仅<进一步细化对先进技术代存储器节点>，以加强对其<主体设备的出口限制>，但<制裁强度低于市场预期>，不损伤晶圆厂扩产主逻辑的情况下制裁利空落地，显著利好整体半导体设备板块，在【先进制程、先进存储】领域积累深厚的厂商有望显著受益接下来的扩产节奏。坚定推荐【中微公司】、【拓荆科技】、【北方华创】、【芯源微】、【华海清科】！
[烟花]IFR限制细节及利好公司一览：
【光刻】
<DUV>：细化限制【≤1.5nm single-machine (dedicated chuck) 套刻误差】及【≤2.4nm matched-machine (to reference wafer) 套刻误差】，1980i系列套刻误差均高于上述指标，预估【不会影响 ASML 1980系列 ArF浸没式光刻机】对华销售
【刻蚀】
<全面限制各类干法刻蚀设备、原子层刻蚀、湿法高选择比刻蚀>：重大利好国内先进刻蚀巨头【中微公司】、【北方华创】
【薄膜沉积】
<钨化学气相沉积、原子层沉积设备>：广泛应用于先进NAND、DRAM、逻辑制造环节，重大利好【中微公司】
<先进Low K介电层沉积设备>：大规模运用于先进存储、先进逻辑，重大利好【拓荆科技】
<先进硬碳膜设备>：大规模运用于先进存储、先进逻辑，重大利好【拓荆科技】
<钴、钌化学气相沉积设备，钴物理沉积设备>：广泛应用于先进NAND/DRAM、先进逻辑，重大利好【中微公司】、【北方华创】
<氮化钛、碳化钨化学气相沉积设备>：广泛应用于先进NAND/DRAM、先进逻辑，重大利好【北方华创】、【拓荆科技】、【中微公司】
<各类原子层沉积设备>：重大利好【拓荆科技】、【微导纳米】、【北方华创】、【中微公司】
<锗硅外延SiGe及掺碳SiGe设备>：广泛应用FinFET、GAA等先进逻辑，重大利好【北方华创】、【中微公司】
<先进节点>电镀（铜）工艺：广泛应用于所有先进IC的铜互连工艺，重大利好【盛美】
【离子注入】
<大束流、高能&极高注入的离子注入设备>：重大利好【北方华创】、【万业企业】
【炉管】
<先进退火设备>：重大利好【北方华创】
事件
2023年10月17日，美国商务部发布半导体设备出口管制临时最终规则（IFR），细化了2022年10月7日的出口管制方案并对公众提交的意见进行回复。IFR进一步规范了对于先进制程半导体设备适用场景、结构参数、限制形式描述等细节。
国海电子观点
[烟花]我们认为本次制裁仅<进一步细化对先进技术代存储器节点>，以加强对其<主体设备的出口限制>，但<制裁强度低于市场预期>，不损伤晶圆厂扩产主逻辑的情况下制裁利空落地，显著利好整体半导体设备板块，在【先进制程、先进存储】领域积累深厚的厂商有望显著受益接下来的扩产节奏。坚定推荐【中微公司】、【拓荆科技】、【北方华创】、【芯源微】、【华海清科】！
[烟花]IFR限制细节及利好公司一览：
【光刻】
<DUV>：细化限制【≤1.5nm single-machine (dedicated chuck) 套刻误差】及【≤2.4nm matched-machine (to reference wafer) 套刻误差】，1980i系列套刻误差均高于上述指标，预估【不会影响 ASML 1980系列 ArF浸没式光刻机】对华销售
【刻蚀】
<全面限制各类干法刻蚀设备、原子层刻蚀、湿法高选择比刻蚀>：重大利好国内先进刻蚀巨头【中微公司】、【北方华创】
【薄膜沉积】
<钨化学气相沉积、原子层沉积设备>：广泛应用于先进NAND、DRAM、逻辑制造环节，重大利好【中微公司】
<先进Low K介电层沉积设备>：大规模运用于先进存储、先进逻辑，重大利好【拓荆科技】
<先进硬碳膜设备>：大规模运用于先进存储、先进逻辑，重大利好【拓荆科技】
<钴、钌化学气相沉积设备，钴物理沉积设备>：广泛应用于先进NAND/DRAM、先进逻辑，重大利好【中微公司】、【北方华创】
<氮化钛、碳化钨化学气相沉积设备>：广泛应用于先进NAND/DRAM、先进逻辑，重大利好【北方华创】、【拓荆科技】、【中微公司】
<各类原子层沉积设备>：重大利好【拓荆科技】、【微导纳米】、【北方华创】、【中微公司】
<锗硅外延SiGe及掺碳SiGe设备>：广泛应用FinFET、GAA等先进逻辑，重大利好【北方华创】、【中微公司】
<先进节点>电镀（铜）工艺：广泛应用于所有先进IC的铜互连工艺，重大利好【盛美】
【离子注入】
<大束流、高能&极高注入的离子注入设备>：重大利好【北方华创】、【万业企业】
【炉管】
<先进退火设备>：重大利好【北方华创】
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