12月25日消息,据媒体报道,佳能高管在接受采访时表示,纳米压印技术甚至可以生产电路线宽为2纳米的产品,佳能半导体机器业务部长岩本和德称,纳米压印就是把刻有半导体电路图的掩膜压印到晶圆上,压印1次就可以形成电路,如果改进掩膜,甚至可以生产电路线宽为2纳米的产品。客户的实际成本可以降至传统光刻设备的一半,而且由于纳米压印设备的规模减小,在研发等用途上也更方便引进。
当被问及纳米压印光刻设备是否有其他竞争公司时,岩本和德表示,面向半导体光刻,开展纳米压印设备业务的在全世界只有我们公司,准入门槛很高。从2017年左右开始,佳能就与铠侠和大日本印刷3家持续进行合作开发,“目前量产用途的实用化已有眉目,我认为可以面向客户销售。”同时其还表示佳能已收到了半导体厂商、大学、研究所的很多咨询,“由于引进EUV光刻设备需要庞大成本,作为替代措施的纳米压印备就备受期待。”
概念梳理:
汇创达:公司立足微纳米热压印技术,致力于研发透光率高、量轻、所需能耗小的导光产品背光模组是公司基于自身导光膜产品结合微纳米热压印工艺的延伸产品,是公司的主营产品之一。
利和兴:公司二代全自动纳米压印设备的研发项目处于研发测试阶段,尚待后续验证。公司全自动纳米压印生产线技术运用快速精密对位、非接触精确测厚、精密缺陷检测、光透传感、位移及角度补偿等自动控制相关技术,结合纳米压印的纳米模压技术与固化技术,把纳米压印行业内的单机手工作业方式改变为全工序自动化方式。
美迪凯:公司控股子公司美迪凯(浙江)智能光电科技有限公司在纳米压印制程领域,具有自主知识产权及核心技术。
苏大维格:公司相继开发多个系列覆盖纳米级和微米级的光刻机与压印设备,已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力,并在积极布局。公司高端智能装备包括直写光刻、3D光刻、投影/扫描光刻、纳米压印光刻设备等部分直写光刻设备已向国内外高校及科研院所、国内企业等销售。