第四代同步辐射光源就特么是为 EUV光刻而生的!
1,同步辐射光源目前已经在建的是第四代。
2,四代同步辐射光源的特点是: -占地小(当然还是很大的,足球场);
-输入能量大为减少;
-输出光源亮度更大(四代完全达到光刻需求);
-频率可以精准控制,可以只输出13.5纳米的EUV(这一点以前是不行的,以前频谱是连续的);
一可以连续稳定工作(二代已经母天15小时,每年5000小时)。3,EUV从同步辐射光源出来就是高度平行光,连光路可以省去,直接掩膜曝光。
4,DUV对光刻胶挑肥拣瘦,十分敏感;但EUV可以固化一切遇到的光刻胶,不挑食。
5,我国建造一座三代同步辐射光源的投入是12亿元;一台阿斯麦 EUV光刻机是一亿美元,7亿人民币。
更劲爆的是:
四代同步辐射光源输出更短波长的 EUV,如3纳米,那是轻轻松松的事情
------以上内容摘自知乎空一格
科技进步才能解决卡脖子问题;写进规划里的项目是会开花结果的!!!
仅供参考学习!