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情绪至上455
2023-10-30 16:18:41
不错!
@无名挖掘研究: 10月27日,上海微电子申请光刻投影物镜的发明专利进入公示期。该专利旨在“降低光刻投影物镜的设计成本及制造周期,同时提高光刻投影物镜的像质校正能力,进而提高曝光成像质量,实现更小的曝光分辨率和CDU,相应的,本发明还提供了一种光刻机。 北京时间10月27日上午,彭博社文章《US 
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