无法取代，另辟战场

88岁的Mitarai指出，纳米压印技术不太可能超越ASML的光刻机，但其将创造新的机会和需求，已经有很多客户提出采购意向。

纳米压印是一种微纳加工技术，它采用传统机械模具微复型原理，能够代替传统且复杂的光学光刻技术。简单而言，像盖章一样造芯片，把栅极长度只有几纳米的电路刻在印章上，再将印章盖在橡皮泥上，得到与印章相反的图案，经过脱模就能够得到一颗芯片，这里的橡皮泥是指纳米压印胶，印章即模板。

近十年来，佳能一直与大日本印刷公司和存储芯片制造商Kioxia Holdings合作开发纳米压印技术。与通过反射光工作的极紫外光刻（EUV）技术不同，纳米压印技术将电路图直接压印到晶圆上，且因其不使用镜头，可以用比现有曝光工艺更低的成本实现精细化生产芯片。

不过，纳米压印虽然仍能衔接最先进的生产工艺要求，但在速度上较光刻机逊色不少。因此，ASML光刻机仍是当今世界最先进的芯片制造机器，也是批量生产快速、节能芯片的首选设备。

佳能机器更像是为小型芯片生产商提供的选择，同时也能让台积电和三星电子等大型代工商更容易生产小批量芯片，从而节约成本。

据悉，佳能正在建设自己的第一家纳米压印设备工厂，预计将在2025年上线。