近日，苏大维格自主研发制造的大型直写光刻设备顺利交付，该设备主要用于光子芯片、光通信和光芯片等光电子领域相关材料的光刻制造。其自主研发的大型直写光刻设备具备以下性能优势：3D矢量设计数据向微结构形貌转化先进算法与软件处理；海量数据处理与传输/快速光刻；大面积衬底实时三维导航自聚焦功能；三维微结构形貌曝光邻近效应补偿；支持大面积光刻厚胶板制备。

　　苏大维格表示，将持续拓展微纳光学技术/产品在国家票据和证件防伪材料、电子纸和反射式液晶前光材料、AR/MR和AR-HUD衍射光学材料、芯片光刻机定位光栅尺材料，以及光刻设备在光伏铜电镀图形化设备、高端掩模、光子芯片、光芯片等具有更高附加值和市场空间领域的商业化应用和产业化投资，竭力为客户提供先进的光学材料、光刻设备和解决方案，满足客户对微纳光刻制造的更高需求，助力其突破技术瓶颈，为产业合作创造新机遇。