涨跌幅:9.97%
涨停时间:09:43:00
板块异动原因:
半导体;半导体小作文发酵。
此外,三星电子宣布,已成功开发12层HBM3E内存,计划于今年上半年开始量产。此外,美光科技26日宣布,已开始量产HBM3E,其24GB8HHBM3E产品将供货给英伟达。
个股异动解析:
光刻机+纳米压印+防伪材料+浙江卡游/元梦之星
1、公司在光刻机方面的研发工作主要由公司控股的美国菲涅尔制版科技公司承担,其研发的光学制版用光刻机在全球范围内独家供应公司使用。公司购买的光刻机用于公司铂金浮雕光学防伪膜、激光全息防伪产品生产。
2、公司从事激光全息模压制品制造、销售的企业,已形成了以激光全息防伪膜和防伪纸为核心的系列产品,目前主要用于商品的防伪标贴、防伪包装以及身份证等的防伪标签,烟酒等领域的防伪包装。公司产品主要配套中高端烟酒。
3、公司目前有为小米、vivo的部分型号提供背板设计和配套包装材料合作。
4、在文创领域,公司主要为国内“奥特曼”卡游龙头企业浙江卡游提供卡牌深加工服务。
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