光刻气认证再下一城，半导体光刻用准分子激光厂家全覆盖。光刻气中的惰性气体和卤素气体在受到电子束激发后所形成的准分子发生电子跃迁后可产生特定波长的光，即可产生准分子激光。常见的准分子激光包括有KrF（248 nm）和ArF（193 nm），KrF 和ArF 准分子激光则是深紫外半导体光刻机所使用的光源。

目前全球范围内仅有荷兰的ASML 和日本的GIGAPHOTON能够生产高性能的半导体光刻用的准分子激光光源。公司的光刻气产品于2017 年通过了荷兰ASML的产品认证，在本次通过日本GIGAPHOTON 的产品认证后，公司实现了自产光刻气产品对于下游半导体光刻用准分子激光设备厂商的全覆盖，显著提高了公司在光刻气领域内的认可度和知名度。此外，公司目前也是国内唯一一家同时通过荷兰ASML 公司和日本GIGAPHOTON 株式会社认证的气体公司。

2021 年上半年，公司光刻气销售额较2020 年同期同比增长70%以上。

特气产品国产替代持续推进，已成功渗透最先进5nm 工艺产线。公司作为国内特种气体龙头企业，已实现了高纯四氟化碳等20 多个产品的国产替代。公司在集成电路领域，对8 寸芯片厂商的覆盖率达80%以上，2020 年年内也已基本覆盖了内资12 寸芯片厂商，同时有多个产品实现了14 纳米、7 纳米先进工艺的批量供应，部分氟碳类产品已进入目前最为先进的5 nm 工艺产线中。

加速下游客户产品渗透，提前布局第三代半导体。公司目前已向国内最大的碳化硅厂泰科天润实现供货，同时此前也有产品在国内最大的氮化镓厂英诺赛科中进行产品验证。特气行业具有较高的客户粘性，公司产品成功导入下游客户后，即有望获得持续性订单，从而使得公司在第三代半导体供应中具备一定先发优势，为公司后续在第三代半导体领域内的发展奠定坚实基础。