挖一个预期差-------------新亚强，位置低，市值低

2021-07-30 

在半导体领域， 光刻和刻蚀技术为大规模集成电路制造过程中的重要工艺，决定芯片的最小特征尺寸， 而光刻胶是光刻工艺得以实现选择性刻蚀的关键材料。 随着市场对半导体产品性能要求的不断提升， 对光刻胶提出了更高的要求，从而达到集成电路更高密度的集积。 电子级六甲基二硅氮烷常被用作光刻胶助粘剂， 通常以液相或气相喷涂在硅片表面， 对硅片进行表面改性， 使其表面性质由亲水性变为疏水性， 一方面能够增强光刻胶与硅片的粘附力， 另一方面可以抑制刻蚀液的侵入， 有效提高抗蚀性。

公司主要产品在下游应用的重要性

 功能性助剂

有机硅以特殊的性质和丰富的制品形态被广泛应用于建筑、汽车、电子电气、医疗、 卫生等多个领域， 其在化学性能方面具有良好的耐热耐寒性、 耐氧化性、耐药品性等， 在物理性能方面具有良好的电绝缘性、 脱模性、 透气性、 压缩性等。随着有机硅材料的广泛应用， 下游行业对其提出了更高的功能和特性需求。 有机硅功能性助剂可以在硅橡胶、 硅油、 硅树脂等下游产品的合成过程中有效改善其加工性能、 力学性能、 光学性能、 老化性能等， 具体应用产品如防震材料、 氧气面罩、 安全气囊、 人造器官、 高档涂料、 高档建筑硅胶、 电子光刻胶、 洗护用品等。