光刻交方面---ArF光刻胶以PMMA为树脂式材料，浸没式ArF胶进一步增加隔水涂层等改进性能。由于芳香结构的PBOCST对193nm光吸收较强，因此ArF胶多采用基本对193nm光透明无吸收的聚甲基丙烯酸甲酯PMMA为树脂材料。而用于浸没式ArF光刻胶在此基础上又进行多次改进，如引入隔水涂层来减少H2O对光刻工艺的影响，采用大分子疏水性PAG降低酸(H+)向水体系的扩散等，采用多重曝光技术最高可满足7nm节点需求。在光刻机替代PPMA光学材料立于不败之地。

ME(混合现实）方面---未来世界必将如电影‘头号玩家’一样，每个人都会有头显一类的设备进入虚拟现实世界，无论头显走什么方向PPMA光学材料是肯定少不了的。PPMA需求也将逐年递增。