1.光刻技术基本面信息

(1)光刻前的准备

通过烘干等方式使光刻胶达到所需的硬度。光刻机会在光刻前对准，然后通过机械手将晶圆传输到光刻机设备，经过一系列处理后形成曝光的效果。

(2)光刻后的处理

光刻后通常进行由离子注入和湿法去除等方法来去除已暴露的部分。光刻胶会受到光照，晶圆会被送回显影设备，通过洁液进行溶解。最后对光刻胶进行烘干以便后续步骤的进行。

(3)光刻机的分类

光刻机的分类可以便于我们讨论整个光刻机市场的格局以及零部件器件。常见的光刻机波长有365纳米、248纳米、193纳米和13.5纳米。

(4)光刻机市场

阿斯麦尔、尼康和佳能是全球主要的集成电路光刻机厂商。根据表格可以看出，UV光刻机的出货量在过去10年有一定的周期波动。2022年全球集成电路光刻机的总出货台数为585台，其中I线和a线的占比分别为37%和7%。

阿斯麦尔在全球光刻机市场中具有绝对龙头地位，占据了80%的市场份额。尼康和佳能分别占据10%的市场份额。

2.光刻机市场测算

根据结合出货量的数据，可以对全球每年的光刻机市场进行测算。得到的一个结果是，DUV的光刻机市场具有一定的周期性特征，除去2021年和2022年的芯片展示之外。

DUP市场一直在快速增长，EUV市场占据了近一半左右的市场份额，大约是43%左右的市场份额。

3.厂商营收规模和出货量

阿斯麦尔在2022年全球光刻机市场的占比大约是80%，出货量占据了总市场的60%左右。尼康占据8%的市场份额，佳能占据30%左右的市场份额。

4.光刻机拆分和厂商竞争

按照光源的型号来进一步拆分光刻机的出货量，可以得出以下结论：

EUV市场几乎是阿斯麦尔一家实现了商业化量产，在EUV市场里几乎是百分之百的垄断。

在ArFiArFi、KrF这几个市场也是有主导地位的，只有在绿光光刻机市场佳能领先于阿斯麦尔。

在a线高科技市场，佳能是绝对的垄断者。

阿斯麦尔在ArF和pip市场实现了对银康和佳能的反超。

5.阿斯麦尔的其他积累

阿斯麦尔有一些其他的积累，包括双沟建材和ASI高科技技术的应用。这些技术使得阿斯麦尔在光刻机市场中具有竞争优势。

以上是关于"半导体掘金"的投资交流会议录音中投资者关心的内容的详细描述。

Q&A

Q：EUV平均售价和IFI、SG、PS和IC的平均售价分别是多少？

A：EUV的平均售价大约是1.5亿欧元，IFI的平均售价是6,000万欧元，SG的平均售价是两千万欧元，PS的平均售价是1,000万欧元，IC的平均售价大约是400欧元左右。

Q：根据数据分析，能否对全球每年的光刻机市场进行测算？

A：根据数据和出货量的情况，可以看出DUP的市场在快速增长，EUV市场在过去几年呈高速增长趋势。预计到2022年左右，EUV光刻机市场将占据全球使用光刻机的近一半份额。

Q：从2016年到2017年，到目前为止，EUV光刻机市场的情况如何？

A：自从阿斯麦尔推出了3400 g型号的EUV光刻机，EUV市场出货量快速增长。从3400b到3400c再到最新的3600型号，出货量持续增长。

Q：阿斯麦尔、麦尔、尼康和佳能四家厂商在光刻机市场的营收情况如何？

A：根据营收规模，2022年阿斯麦尔的光刻机收入是165亿美元，平仓是15亿美元，加盟是18亿美元。根据营收额来看，阿斯麦尔在全球光刻机市场的占比大约是80%。尼康和佳能的光刻机市场份额分别是10%和10%左右。

Q：从出货量的角度看，阿斯麦尔、尼康和佳能在2022年的市场占比如何？

A：在2022年，阿斯麦尔的出货量占光刻机市场总量的约60%，尼康的占比约为8%，佳能的占比约为30%。可以看出阿斯麦尔在全球市场仍然具有绝对垄断地位。

Q：根据光源的型号来拆分出货量，能得出什么结论？

A：目前只有阿斯麦尔在EUV市场实现了商业化的量产，所以在EUV市场几乎垄断了市场份额。在ArF、ArFi等市场也有主导地位。在I线高科技市场，佳能具有绝对垄断地位。阿斯麦尔在ArF、ArFi、KrF以及pip等市场实现了对尼康和佳能的反超。

Q：阿斯麦尔的主要积累是什么？

A：阿斯麦尔的主要积累有三个方面。第一是双沟建材，它的先发优势让它在光刻机市场中占据了90%以上的份额。第二是推出的ASI的高科技，它在光刻技术上取得了一定的突破。第三，阿斯麦尔在磁悬浮和其他方面也进行了专利布局，确保了自身的竞争优势。

Q：阿斯麦尔在ArF、arf和ArFi市场中的占比是如何的？

A：阿斯麦尔在ArF、arf和ArFi市场中的占比都超过了90%。在ArF和arf市场，阿斯麦尔利用了全球光刻机产业链的资源，形成了UV产业化的能力。此外，阿斯麦尔在ArF市场中采用了双峰电台等技术，大幅提高了光刻机的产率。

Q：佳能在光刻机市场的地位如何？

A：佳能在全球光刻机市场的市场份额按营收额只有10%，但按出货量占比为30%。可以看出佳能在中低端市场的出货量非常高。在I线市场，佳能具有绝对垄断地位。

Q：半导体掘金公司在光刻机领域有哪些技术优势和核心零部件？

A：从录音中可以看出，半导体掘金公司在光刻机领域具备以下技术优势和核心零部件：1.采用静默式方法，探索光在水中的折射原理，将193纳米的波长变为134纳米，即使获得157纳米的曝光，具有较其他厂商更先进的技术。2.阿森纳加入了美国领导的uvllc联盟，并与英特尔、摩托罗拉、AMD、美光等公司进行合作，积累了euv相关技术方面的知识。3.阿森纳与欧洲的研发中心合作推出了样机，后经打磨镜头和光源进行优化，最终推出了能够商业化的机型。4.核心零部件主要包括光源系统、物业系统、供电台、竞业系统等，在几家欧美企业中进行垄断，并具有较高的研发和制造难度。5.具备固定系统和路径系统等核心零部件，能够实现对光线的聚焦和缩放功能。6.在光源功率和分辨率等方面，具有较传统的buv光刻机和euv光刻机的区别。综上所述，半导体掘金公司在光刻机领域拥有先进的技术和核心零部件，其优势主要体现在光源系统、物业系统、供电台和竞业系统等方面。这些优势使得半导体掘金在该领域具有较深厚的壁垒，有望在全球高科技市场中占据一定份额。

Q："镜头核心的难点在于它的平整度，同时也要有比较精密的设备来实现控制。请问有哪些工艺能够用于控制镜头的平整度？"

A：镜头的打磨流程通常包括高精度机床磨成型、小模头抛光、磁流变抛光、离子束抛光和镀膜等步骤。离子束抛光是一种核心技术，通过用离子轰击镜头表面，能够打平表面的凹凸不平，并且不会产生新的缺陷，具有高加工效率。德国派斯在这一领域有很多专利和经验。

Q："在光刻机中，对于照明系统来说，有哪些特殊的零部件和处理方式？"

A：照明系统在光刻机中起到重要的作用，它能够对光进行一些处理，比如微调波长、作用于整个广场的云化等。这涉及到一些特殊的零部件，比如荧光器，它能够将广场上均匀度不一的光变得均匀。照明系统的设计不仅仅是几何光学的设计，还包括物理光学的考虑，比如光的衍射。上市公司举光科技在这一领域有设计能力。

Q："在光刻机中，光源系统是一个重要的零部件。请问DUV光刻机和ArFkf激光器的工作原理是怎样的？"

A：DUV光刻机通常采用一些分子激光器，如ArFkf。它的工作原理是通过施加高压脉冲给惰性气体分子，形成惰性元素的氯化物，并产生激发态和基态的氧化物。由于基态是不稳定的，激发态的分子会不断跃迁到基态并释放能量，这个过程类似于原子的电子跃迁释放光子的过程。

Q："国内在镜头、照明系统和光源系统方面有哪些相关的公司或布局？"

A：目前国内上市公司茂来光学在镜头领域布局较多，提供两点灯设备等产品，并为上海威提供供货。长光所也有一定的布局。在照明系统方面，举光科技有设计能力。在光源系统方面，国内吉林科技有布局。

Q：euv光刻机与DUV光刻机有何不同？

A：euv光刻机与DUV光刻机的制造原理不同。euv光刻机通过施加高压短脉冲，将短乳素化合物分解为重型气体和乳素单质产生光，所得波长为248纳米和19493纳米。它的核心零部件是液滴发生器，通过控制液滴的形状和速度，使业绩以固定速度打在光源舱里。而DUV光刻机则是由机电离产生的流程，液滴先变为液滴形状，再通过打在碳上的脉冲使其电离，产生用于光刻的3.5纳米光。因此，euv光刻机在业绩发生、二氧化碳激光器功率和物理建模过程上面临的难点与DUV光刻机不同。

Q：目前全球能够做UV光源的公司有哪些？

A：目前全球唯一能够做UV光源的公司只有美国的kmaDV光源和日本的质押风。在国内，科艺宏源是主要的企业。

Q：光刻机的对准工作有哪些难点？

A：光刻机的对准工作难点主要体现在测量精度和速度上。光刻机需要达到所需的精度，同时提高工作效率。此外，光刻机是整条产线比较昂贵的设备，因此需要在机械和电机方面实现纳米级别的控制。阿斯麦尔采用磁悬浮驱动代替传统的驱动方案，能够实现更高的精度控制，降低静电系统液体的抖动，提高光刻机的效果。

Q：光山池在双方建材领域竞争优势明显，有什么技术积累？

A：光山池注册了大量专利，在磁悬浮技术方面积累很多，并且在ASI等方面占据了垄断地位。

Q：光山池的双方建材还可以用于哪些领域？

A：除了移动设备，光山池的双方建材还可以用于测量领域，特别是实现纳米级别的测量需求。

Q：光刻机的光源波长发生了变化，有哪些效果？

A：在光刻机的物镜系统和新闻之间增加一层透明的液体，折射光的波长发生了变化，从193纳米变成了10034纳米，这提高了光源的绿色角度和分辨率。

Q：光山池的光刻机系统是一个公益还是开放系统？

A：光山池的光刻机系统是一个开放的系统，可以流入和流出水，通过测量外部控制的水的性能来形成一个微调控。

Q：CS行业近期有明显的上升趋势，下半年可能会出现业绩拐点，请问有什么具体的公司可以投资？

A：建议关注格科威公司，近期其高阶CS图像传感器取得了突破，并实现了高阶赛季市场的订单。

Q：格科威公司提出的高像素单芯片集成技术有什么特殊之处？

A：这项技术能够提高面积利用率，改善成本结构，公司已经成功拿到了一些高像素产品的实现订单。

Q：格科威公司在工厂方面的变化如何？

A：公司在工厂的平稳过渡中表现出色，具有管理层和工艺经验，并且在关键时期抓住了一个重要时间窗口。

Q：工厂过渡后，格科威公司能够支持更多高端产品的产能吗？

A：预计今年下半年到明年，工厂月产能可达2万片左右。

Q：随着格科威公司收入规模的增长和工艺成本的改善，工厂对盈利的影响会减少吗？

A：预计在2025-2026年，工厂对公司盈利的拖累将减小，有利于提升毛利率水平。

Q：你们对于半导体掘金这个公司有什么看法和建议呢？

A：我们看到这个市场对该公司的关注度并不高，对技术的理解和包括fatlight这样的一个模式的理解还是不太深。我们建议投资人多去关注该公司，因为我们中心半导体团队也是市场上跟踪各公司最紧密的团队之一。公司的业务目前还是比较符合预期的在进行，汽车这一块的份额在快速提升，在国内的环视市场目前看来也是一个比较大规模的切入，在手机这块的高端旗舰产品这里也陆续进入量产。另外，CV跟维尔也是另外两家公司，可能大家相对来说更加熟悉一些。CV股份在4s行业是一个板块性的触底的反弹的机会，而维尔股份在定位上面，则是比较稳固的一个国际化的第一梯队的位置。

与会者对于STV，我们看到上周之前它的股价也条件比较多。我们认为跟7月底它有一个比较大规模的解禁，其实是有一定的关系。到目前为止，我觉得这方面的影响也在逐渐的走弱。

Q：你们对于STV的股价下跌有什么解释和看法呢？

A：对于STV，我们认为跟7月底它有一个比较大规模的解禁，股价下跌有一定的关系。但到目前为止，我们觉得这方面的影响也在逐渐的走弱。公司的业务目前还是比较符合预期的在进行，汽车这一块的份额在快速提升，在国内的环视市场目前看来也是一个比较大规模的切入，在手机这块的高端旗舰产品这里也陆续进入量产。

Q：台积电和英特尔在光刻机上的差距有多大？

A：台积电和英特尔买的是同一型号的光刻机，但台积电的两亿产能比英特尔高。可能原因是台积电有更强的设备调节能力，能够调出更准确的工艺，提高识别度。此外，两者的工艺流程设计也有所不同，可能会对良率产生影响。目前来看，台积电相对英特尔在摩尔定律制程方面领先1-2代，估计需要3-5年的时间让英特尔追赶上来。

Q：台积电和英特尔在芯片制程上的差距体现在哪些方面？

A：在晶体管的密度和功耗等数据方面，台积电目前具有一定的领先优势，主要体现在摩尔定律制程方面。这种差距主要集中在28纳米及以上的工艺上，因为在该级别以上，芯片的三级宽度概念已经不再适用。目前来看，英特尔还未大规模量产14纳米级以上的芯片，而台积电已经开始量产三纳米代工芯片。

Q：台积电的技术发展进程如何？

A：台积电目前正在进行两纳米或称为n2的研发，并计划在2026年进行量产。按照摩尔定律的规律，每隔两年技术会有一次提升。预计今年是n3量产，明年可能会是n2的量产。由于摩尔定律的进一步延长，可能需要再加上2.5年的时间，因此预计在2028-2029年左右才会有一纳米级的量产。

Q：芯片的n1和n2级工艺在卫星等高精密领域中的优势如何？

A：目前主要应用n1和n2级工艺的场景是智能手机和高性能计算，尤其是智能手机和arvr设备，因为它们对体积和重量有较高要求，需要集成化的设计。相反，卫星等外太空设备并不像终端产品那样需要先进的芯片，因为太空中存在着大量宇宙粒子的辐射，而小尺寸的器件可能很容易受到宇宙射线的影响，导致数据错乱。因此，在卫星等特殊场景中，可能需要采用特殊封装的芯片，而不是台积电所提供的市场应用场景。

Q：Disbng的发展趋势和镜头如碎雨等是否类似？

A：对于Disbng的发展趋势，当前尚无披露。至于类似于碎雨等镜头，还请其他同事回答。

Q：罗姆卡维尔是一个有代表性的公司，二季度情况改善后，三季度的环比和同比都会有进一步提升吗？

A：是的，我们认为三季度的情况将会继续改善。此外，近期iPhone的发布将会加速对半导体产能的消耗。

Q：有友商可能在良率上遇到挑战，是否会加速行业产能消耗？

A：是的，可能会加速行业产能的消耗。

Q：对于像顺义港股等光学公司，库存是否已经见底？手机镜头和模组段的出货情况如何？

A：目前来看，这些公司的库存都相对较低。手机镜头和模组段的出货情况已经相对稳定，并且进入同比中高个位数、环比接近持平的状态。

Q：对于手机镜头和模组行业，在数量角度上已经进入底部了吗？

A：是的，我们认为整个手机镜头和模组行业已经进入底部，信号非常清晰。

Q：从价格角度上看，手机镜头和模组行业的竞争情况如何？

A：经过过去一年半到两年的激烈竞争后，目前整个行业的竞争已相对稳定，不太会出现恶意的价格竞争情况。价格相对平稳，甚至在一些高规格产品上有微弱复苏的迹象。

Q：请教一下今年像台积电、3纳米、5纳米、7纳米的收入占比的毛利率分别会达到多少？

A：今年台积电的三纳米收入占比大概在5%左右，毛利率会略低于59%，大概在49%左右。明年随着苹果三纳米占比的提升，收入占比可能会快速提升到10%或者20%，毛利率也会有一个新的回复。

Q：中芯国际和长江存储对明年的资本开支同比变化是如何的？

A：中芯国际今年的资本开支大概在60~70亿美元左右，明年很可能与今年持平。一方面，中芯国际作为国家队可能会有适当的逆势扩张，推动资本开支增加；另一方面，由于互联网企业行业市场相对统一化，中芯国际的产能利用率不高，可能会对资本开支产生负面影响。至于长江存储，由于美国的设备出口限制，今年的资本开支相对较低，但预计后期会有一定的突破并恢复到较高水平。

Q：关于舜宇的镜头产品，明年的价格以及毛利率会有什么变化？

A：明年舜宇镜头产品的价格相对稳定或略微下降。随着创新的推进速度变缓，同规格产品的相对价格可能会年降。而就舜宇镜头产品自身的毛利率而言，由于出货表现较强，市场地位较好，加上与北美大客户的合作，预计毛利率会比前两年有所提升，并略好于行业整体水平。

Q：对于投资人赵毅的教育创新观点，能否进行点评？

A：关于赵毅的教育创新观点，我们今天在线上进行了相关分析，总体上有一些积极的观点，但具体的点评需要等待同事上线后再回答。

Q：国内有哪些公司进入了海外光刻机行业的供应链?

A：极光科技和曙光科技在海外光刻机行业的供应链中有参与。国内的kgbs是比海外更早研发出来的。这说明国内在技术上领先，有可能有间接功能的可能性。

Q：关于科威自制CIS的进展，请再详细说一下。

A：科威自己的终端厂应该在今年下半年实现一个正常产能。预计一期规划的产能大约是每个月2万件12寸的，能够满足国内市场的需求。高阶产品是3200万像素的前摄像头芯片，已经开始接受一些品牌的批量订单。预计今年年底到明年会陆续推出5000万像素产品，这样的产品有望给公司带来持续的增长驱动力。

Q：对于光刻机行业，国内的产业链和零部件如何发展？

A：目前光刻机零部件的量产主要是欧美的民营企业，如泰斯天诺尔和阿斯纳。但国内也有厂商在研发整机和面板光刻机等产品。公司也相信未来国内在晶圆制造方面能够批量使用。在光刻机核心零部件方面，海外厂商基本上要么被阿斯纳收购，要么与阿斯纳合作。因此国内需要配套开发关键零部件。

Q：总结一下对于光刻机行业的观点和推荐。

A：光刻机行业有底部企稳向上的趋势，价格稳定，手机需求也趋于稳定。对于低端机市场，成本变得越来越重要。建议关注那些实现从低阶向高阶突破的公司。而旗舰机的芯片升级也非常重要，国内的供应商可以替代海外市场，因此旗舰机的芯片会加速行业产能消耗。推荐关注格科威等公司，这些公司有大幅度的预期差。