Q1:公司在薄膜沉积设备领域未来拓展方向? A:目前集成电路领域是根据客户需求做产品拓展,类似PECVD是处于研发早 期,未来还是根据市场需求和产业趋势。主要是三个方向,一是更高制程设备研发,28nm已经成熟研发,14nm验证没啥问题,14nm以下还是处于研发早
期;二是工艺拓展,主要是多样化的应用,包括8寸成熟工艺等领域都有产品推出;三是随着摩尔定律推进,业内也开始推出先进封装,我们也开始布局相关设备研发。
公司刻蚀和薄膜沉积合计占50%左右吧。
Q2:公司在三代半领域布局什么设备? A:SiC从材料到器件都有布局,包括长晶炉、外延设备、刻蚀、沉积、高温氧化和退火等设备;GaN设备包括刻蚀和其他工设备都有布局。有部分产品已经开始销售。
Q3:SiC长晶炉、外延炉大规模供应给谁? A:目前主要供应百台左右,主要供给国内厂商。外延炉量没有到达百台的规模。
Q4:上有零部件供应情况?国产化率多少?供应商引进情况? A:公司一直在做国产零部件验证和培育,基本上每年都会提升,半导体设备端基本都用国产的了,先进制程也还在提升。
从数量来讲,国产化率已经比较高了,我们现在基本采用比较自由的方式来配置零部件,采用海外核心零部件+大部分国产零部件。
Q5:刻蚀设备目前交期多长?
A:大部分在6-9个月,具体还是要看下游的客户需求。
Q6: 上 半 年 订 单 情 况 ? A: 每 个 月 大 概 维 持 在 15 亿 左 右 订 单 吧 , 之 前 披 露 了 1-2 月 合 计 订 单 30 亿 。
Q7:电子元器件方面,未来发展趋势?三期项目达产时间点?
A:20年以前还是保持一个很低的趋势,20年下半年开始随下游客户需求以及我们新产品推出,整体增速很客观,21年达到40%,22H1也很快。整体看,元器件增速还是比较平稳,预计全年收入占比20%左右(上半年占比25%)。
三期项目(21年募投)今年年初开始建设,预计2年时间达产。随着三期项目逐步达产,毛利率应该能维持在70%左右吧(短期),再往后可能需要看业务具体情况。
Q8:电子元器件22H1具体增速范围?
A:增速大概在60%-70%左右,全年应该没这么高。
Q9:光伏设备情况拆分?
A:TopCon设备类似炉管、扩散设备都有了,HJT设备是有储备,暂时还没有走向市场。
Q10:公司22H1研发支出同比持平,为啥?
A:上半年研发投入10几个亿,同比持平。去年是一个高投入阶段,今年来看全年绝对值会有提升,但占比会有下降。
Q11:公司股权激励费用是Q一次性计提,还是分期计提? A:每年Q4一次性计提,这个还是按照之前的节奏,保持基数稳健。
Q12:公司三代半设备交期情况?
A:我们目前交期还好,这个主要是按照下游客户需求,要满足客户的生产需求,我们目前还没看到有延长交付的趋势。
Q13:下游逻辑、存储客户占比情况?营收占比结构?
A:从客户数量来看,存储类客户还是比较少,长鑫在早期建设的时候国产化率还是比较低,可能后续会加大国产化率,目前看逻辑类客户还是比较多。
Q14:明年半导体景气度展望?
A:从下游需求来看,全球的需求结构趋势出现一定分化。但是站在国内的角度来看,国内晶圆厂还是保持扩产节奏,特别是大型晶圆厂还是稳步扩产,一些通用、小型的晶圆厂有一定下滑。
Q15:未来几年对利润率的展望?
A:毛利率主要还是产品结构的改善,随着集成电路设备占比提升,毛利率还是会持续提升。净利率主要是费用率的影响,不太好做判断。目前主要关注规模和市占率吧。
Q16:公司以前披露过CCP刻蚀已经通过验证,未来怎么展望?
A:我们现在在8寸CCP刻蚀已经实现全覆盖,部分已经实现出货。12寸的CCP刻蚀还在努力吧。
Q17:上半年研发人员支出比较多,目前研发人员数量?
A:数量一直在增加,薪酬也在提升,上半年也计提了部分奖金。