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HBM系列㈠:算力强基要塞,CoWoS封装国产!
兄长调研
机构
2023-11-19 20:14:35
♒⭕【浙商电子蒋高振】HBM系列㈠:算力强基要塞,CoWoS封装国产! 英伟达发布AI芯片H200,首次采用HBM3e,拥有141GB显存,4.8TB/秒带宽。与H100相比,H200的推理速度、带宽、显存容量等提升。随着H200 2024Q2 计划交付、B100计划2024年发布,叠加AI发展算力需求持续增加驱动,有望带动HBM产品市场规模快速增长,利好相关材料、经销、设备、封测等环节发展。 ♒需求端:带宽为算力提升瓶颈,HBM与大模型相辅相成。 HBM突破了内存容量与带宽瓶颈,打破了“内存墙”对算力提升的桎梏,其具备高带宽、低功耗的特点,面对AI大模型千亿、万亿的参数规模,服务器中负责计算的GPU几乎必须搭载HBM。目前全球HBM产能主要用于满足Nvidia和AMD的AI芯片需求。随着大型互联网客户自研AI芯片陆续推出,HBM客户群预计将大幅扩容,HBM对全球半导体市场的影响力将进一步加大。据TrendForced预测,2024年整体HBM营收有望达89亿美元,年增127%。 ♒供给端:产品升级,产能速增。 据TrendForce数据,三大原厂SK海力士、三星、美光2022年HBM市占率分别为50%、40%、10%,2023年预计分别为53%、38%、9%。原厂加大投入,带动HBM产能持续扩张。据TrendForced数据,原厂通过加大TSV产线来扩增HBM产能,预估2024年HBM供给位元量将年增105%,多数HBM产能24Q2有望陆续开出。其中,随着HBM3的加速芯片陆续放量,2024年市场需求将大幅转往HBM3,其更高的ASP有望带动2024年HBM市场显著成长。 ♒设备/材料:工艺升级,用量提升。 HBM的工艺把DRAM技术路径从平面结构带向了3D结构,3D结构的构建将为对应的设备材料带来更多需求,其中TSV工艺最为关键,核心设备为硅通孔刻蚀设备,刻蚀完成后的金属填充设备、CMP设备、键合机需求也会相应增长,材料方面,刻蚀液、硅电极、电镀液、CVD前驱体、靶材、键合材料、硅球粉同样会有需求提升。 ♒封测端:先进封装,CoWos助力。 HBM通过使用TSV垂直堆叠多个DRAM,可显著提升数据处理速度,同时尺寸有所减小。随着AI及HBM需求加速发展,有望带动先进封装需求持续增长。据台积电预计,目前其CoWos产能供应紧张,2024-2025年将扩产,2024年其CoWos产能将实现倍增。同时,三星计划于 2024年推出先进 3D 芯片封装技术SAINT,具备SAINT S、SAINT D、SAINT L三种方案。 ⭕产业链重要标的 材料:神工股份、雅克科技等 经销:香农芯创、雅创电子等 设备:中微公司、赛腾股份等 封测:盛合晶微、长电通富等 ⭕风险提示 产能不足,需求增长不及预期,技术进展不及预期等。
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  • XXLL2023
    高抛低吸的老股民
    只看TA
    2023-11-20 20:48
    TSV是HBM核心工艺,TSV的核心工艺是水平电镀,水平电镀液龙头是天承科技!
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  • 只看TA
    2023-11-20 10:00
    辛苦了!!
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