光刻机产业链
伊震峰
只买龙头的龙头选手
2023-08-31 19:06:17
【分类】光刻胶（Photoresist）➡️是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。曝光后的光刻胶经过显影液处理后，会留下所需要的电路图案。光刻掩膜版（光罩 Mask Reticle）➡️是光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，通过曝光过程将掩膜版上图形信息转移到光刻胶图形上。光刻用电子特气➡️主要包括Ar/Ne/Xe、Kr/Ne、F2/Kr/Ne、F2/Ar/Ne。光刻气中的惰性气体和卤素气体在受到电子束激发后所形成的准分子发生电子跃迁后可产生特定波长的光，即可产生准分子激光。
我国逐步在光刻机产业链中实现部分突破。在光刻机产业链上游，中国初步突破了光刻机的双工作台（华卓精科）、光源（科益虹源、福晶科技）和光学镜头（奥普光电）三大核心子系统。在中游，上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商下游，中芯国际是全球领先的集成电路晶圆代工企业之一。资料来源：光大证券研究所
我国逐步在光刻机产业链中实现部分突破。在光刻机产业链上游，中国初步突破了光刻机的双工作台（华卓精科）、光源（科益虹源、福晶科技）和光学镜头（奥普光电）三大核心子系统。在中游，上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商下游，中芯国际是全球领先的集成电路晶圆代工企业之一。资料来源：光大证券研究所
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