＃光刻机体感敏感 光刻机内部的温度特别是成像镜头、硅片、掩模版周边的温度对光刻机性能表现至关重要，必须保持在22上下0.005摄氏度的温差范围内。光刻机温度控制技术无疑是保证良率的核心关键。

＃温控国产替代 公司自2022年针对半导体行业需要研发了液冷、空冷、换热器等产品及解决方案。公司的SCFI-变频氟化液冷却机应用于半导体行业的刻蚀设备、涂布显影设备、试验机等场景；SCWI-变频水冷却机应用于半导体行业刻蚀设备、外延生长设备、光刻设备、CMP设备等应用场景。

＃中微认证 公司半导体领域拓展了上海微电子、北方华创、芯碁微装、华海清科、中电科第四十八所等。随着公司获得国内半导体龙头客户的认可，产品有望进入快速放量期。

投资建议：半导体设备温控国产替代先锋#同飞股份，重视光刻机核心标底，＃供货上微带来的产品放量。