关键词：全球首家宣布实现高数值孔径光刻系统成功图案化

              重大里程碑   为全球半导体行业带来新的契机

              高数值孔径（高NA）

              Twinscan EXE:5200

   4 月 18 日消息，荷兰阿斯麦 (ASML) 公司宣布，其首台采用 0.55 数值孔径 (NA) 投影光学系统的高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机已经成功印刷出首批图案，这标志着 ASML 公司以及整个高数值孔径 EUV 光刻技术领域的一项重大里程碑。

        ASML 公司似乎是第一家宣布使用高数值孔径 EUV 光刻系统成功进行图案化的公司，这对于整个半导体行业来说都是一个重大突破。

A股相关上市公司：

1、晶方科技    子公司Anteryon公司是ASML公司的重要供应商，目前为ASML提供多种不同加工精度的设计需求，为ASML TWINSCAN XT和NXT两个主力型号光刻机65nm和10nm光学平台和晶圆对位传感器的独家供应商。

Anteryon在晶圆光学领域是业界公认的领导者

2、炬光科技  为ASML提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件光场匀化器，且对于TWINSCAN EXE:5200 没有否认

             炬光科技的晶圆级共同结构化微光学加工工艺可实现大矢高(Sag) 、大数值孔径（NA）光学元器件，且满足大批量、低成本制造。