7月6日消息，美国正在扩大遏制中国崛起的运动。据知情人士透露，美国已向荷兰政府施压，要求其禁止ASML Holding NV向中国出售生产全球大量芯片所需的主流技术。美国政府希望将限制范围扩大至稍旧的DUV光刻机设备等。这些设备是半导体生产过程中所必需的，并且在这一市场中ASML拥有垄断地位。

有知情人士称，美国还试图在对中国禁售光刻机方面向日本施加压力，因为日本尼康公司在ArFi光刻机领域占有少量市场份额。

EUV是未来光刻技术和先进制程的核心，此前美国已经对华禁售EUV光刻机。

DUV能满足绝大多数需求：覆盖7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的区别在光源方案。EUV的光源波长为13.5nm，但最先进DUV的光源波只有193nm，较长的波长使DUV无法实现更高的分辨率，因此DUV只能用于制造7nm及以上制程的芯片。鉴于DUV涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片。所以，完全掌握DUV技术就能在各类芯片领域有所建树。然而，随着先进制程向5nm及以下先进制程进化，EUV成为了刚需。

美国现在连DUV光刻机都想禁售，有点想往死里扼杀中国的意思。国产替代需要加速！

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