【捷佳伟创】首批集成电路全自动湿法设备成功交付客户，半导体设备放量进入实质性阶段

1. 根据捷佳伟创官微消息，其全资子公司创微微电子（常州）已取得槽式湿法清洗设备的批量订单，并于2021年7月21日成功交付3台集成电路全自动槽式湿法清洗设备至客户进行大批量生产。

2.成熟量产设备。根据我们了解，目前公司半导体级槽式清洗设备已经成熟，本次3台出货是量产而非样机，目前在手订单较多，预计后续将持续有设备交付。

3.清洗类新产品研发。全球半导体清洗设备约40-50亿美元，目前公司正在设计制造中的设备还包含了用于MicroLED、第三代化合物半导体及集成电路IDM厂的槽式清洗设备及相关附属设备，涵盖了集成电路200mm以下近70%湿法工艺步骤，包含有光刻胶去除、氧化膜刻蚀、金属膜刻蚀、炉管前清洗及有机溶剂清洗等。

4.定增半导体清洗及炉管类设备。清洗设备之外，公司定增继续加码炉管类设备，设备涵盖立式炉管常压化学气相沉积设备、立式炉管低压化学气相沉积设备（LPCVD）、立式炉管低压原子气相沉积设备以及立式炉管HK ALO/HFO2工艺设备等炉管类设备，半导体设备种类进一步丰富。

5.光伏设备继续突破。公司作为PERC电池技术的龙头，在N型电池新技术全面布局，目前在HJT领域进展顺利，最新7月20日自己的常州中试线首片电池出片，同时在下游客户的验证持续进行，预计在Q3能看到积极的数据。

此前市场目光聚焦在公司光伏设备，对半导体设备的关注度较少，本次订单落地我们认为意义重大，公司泛半导体设备布局已成形，建议持续关注公司的积极变化。