【博主说】捷佳伟创半导体设备进展交流要点：



1、湿法设备Leader来自台湾，在台积电与中芯国际有20年任职经历，也在湿法设备公司工作过，既懂设备也懂工艺。团队主要来自日本、中国台湾、大陆、晶圆厂和设备公司的湿法工艺、设备成熟人才。日本研究院成立于2020年初，很资深。单片式晶圆团队预计很快到位。公司对团队有激励。团队成员在2019和2020年陆续加入，2020年9月成立负责湿法设备的子公司创微微，还有其他优秀团队和人才正在加入。

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2、湿法设备产品方向：槽式湿法设备、先进封装设备（包括槽式和单片式）、硅片和晶圆的单片式湿法设备。目前在槽式湿法设备已覆盖80%，技术上可以做到100%待开发。

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3、发展规划：1）第一阶段槽式清洗机，覆盖LED、MicroLED、硅片、化合物半导体、8寸晶圆等，用于12寸先进封装的设备即将开发。2）第二阶段化合物半导体单片式清洗设备，今年初团队和项目都已成立。3）第三阶段8-12寸单片式清洗设备，技术含量很高，人才很快到位。4）涂布显影也是未来研发投入的重点。

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4、在手订单超过10台（包括公告交付的3台），包含microled、化合物半导体、8寸晶圆槽式清洗设备等。

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5、公司团队成员在半导体领域比较知名且有良好的声誉，客户比较放心；团队成员均受过半导体公司专业训练，为专业型人才，产品的很多问题在设计阶段就会考虑进去，因此能快速通过验证。

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6、清洗设备全球35-40亿美元，未来会超40亿美元。国内大力发展化合物半导体，未来化合物半导体的清洗设备需求会很大。先进封装国内落后国际领先5-7年，未来国内3-5年需求会很好。均是公司重点布局方向。

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7、清洗设备市场非常广阔，清洗设备公司都有自己在工艺上的侧重，无法覆盖所有工艺，公司可以做的领域很多。公司作为新进入者，计划从化合物半导体、先进封装等为重点起步，暂与国内公司不直接竞争。

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8、公司的优势：团队既懂工艺又懂技术，具有人才和经验优势；化合物半导体清洗设备领域是新领域，公司的人才和技术力领先；捷佳伟创作为光伏设备龙头企业有成本优势。