在芯片进口受到美国制裁的情况下，中国下定决心要竭尽全力实现芯片自给自足，因此，国内不少企业都将大部分精力放在研发芯片和光科技上。要想生产出高端芯片，那就离不开光刻机，而光刻机中最核心的部件就是光刻胶。近日，南大光电传来了令人振奋的好消息：关于7nm工艺光刻胶已经通过验收，很快会投入规模化量产。

这一消息的正式公布，不仅仅为我国生产高端制程芯片提供了信心，同时更是意味着我们已经打破日本和美国在光刻胶市场的垄断地位，为我们进一步摆脱美国的芯片掣肘打下了坚实的基础。

光刻胶的重要性

光刻胶是集成电路中必不可缺的一种材料，它是一种耐蚀剂刻薄膜，可以通过紫外线等的照射发生溶解，得到我们所需要的图像。比起一般的材料，光刻胶可以大大提高芯片制作过程的精细程度，越是精细先进的制程，越是需要使用短光波长光刻胶，实现微小化。自从1826年起，芯片的生产就已经离不开光刻胶了。

光刻胶有不同的类别，与之对应的技术也是完全不同的，目前，低端的G线和I线光刻胶的自给率大约为20%，KrF光刻胶自给率不到5%，而高端的ArF光刻胶则完全依赖进口，这也是为什么美国人一伸手，我们就被卡住脖子的缘故。而这次，南大光电在ArF光刻胶制作工艺上的突破可以说是给我们注射了一针镇定剂。

如果说，光刻机的蚀刻技术至关重要，那么光刻胶的生产可以算得上是必不可少，否则即便你拥有最先进的光刻机，如果没有与之对应匹配的光刻胶的话，也算得上是白忙活一场。光刻胶可以保护材料在光刻过程中不被腐蚀、阻挡电离子注入，同时确保在芯片制作过程中将掩膜版图转移到表面顶层的光刻胶中。由此可以看出，不管是哪一个部分都离不开光刻胶。

南大光电传来好消息

为了实现ArF光刻胶的研发生产，南大光电形成了51人组成的ArF光刻胶研发预生产管理团队，通过不断的试验、演算、修改最终才取得了成功，这其中的复杂程度一点也不亚于一台计算机的组装。所有参与的人员都需要时刻保持一颗清醒的头脑，及时发现问题并作出修改。只有这样，才能够确保最后的成功。在此次项目的研发过程中，南大光电一共申请了91项专利，其中81项目是国内发明专利、4项是国际发明专利，6项是实用新型专利，在我国集成电路关键材料自主创新上取得了重要成果。

南大光电已经建成年产25吨ArF光刻胶产业化基地，具备了进一步扩大生产的能力，他们的目标是建立年产5吨的干式ArF光刻胶和年产20吨的浸没式ArF光刻胶的产业化生产线，如果能完成设定的目标，那么未来公司的光刻胶事业发展将得到进一步的积极发展。不仅如此，世界上很多国家也能够进口我们国家生产的光刻胶，为我们提供新的贸易来源，打破我们一直以来靠着进口维持国内高端产业发展的局面。

被日本垄断的光刻胶

虽然现在的光刻胶市场是由日本垄断，但是，其实光刻胶最早是由美国人发明和生产的。只是经历了荷兰阿斯麦和台积电的崛起之后，半岛有领域进行了一次大规模的改革，整首歌市场逐渐被细分开来，形成了以阿斯麦生产光刻机、台积电三星生产高端制程芯片、日本生产光刻胶的市场格局。

据统计，全球的光刻胶市场主要是日本的JSR、东京应化、信越化学以及富士电子材料这四家在生产，合计市场的占有率高达72%.即便美国现在想要对日本的光刻胶企业进行制裁，恐怕也是有心无力，毕竟日本目前在半导体行业的发展有目共睹，这是经过长时间的技术更新迭代累积下来的，要想取而代之，需要耗费更加多的资金和人力，根本就不划算。更何况，现在美国政府的头号敌人是中国和俄罗斯，日本作为他的盟友，短时间内是不会对日本下手的，他还需要日本不留余力的支持。

南大光电在这样的情况下，能够顶住来自外部的一切压力，全身心的投入到项目的研发当中，可见研究人员是抱着极大的压力在奋勇前进。皇天不负有心人，我们最终还是取得了成功。

此次南大光电传来的消息，直接导致A股的半导体板块股价大增，其中包括南大光电、晶瑞股份以及上海新阳的涨幅最多。但是由于目前ArF光刻胶并未实现规模化量产，因此还存在一定的风险。毕竟，ArF光刻胶的技术本身就很复杂，一旦在制作过程中出现一点偏差都有可能导致失败。

西方人的最害怕的事情

阿斯麦的总裁曾经说过即使把光刻的生产制造的工艺流程图给我们，我们也无法生产出光刻机，因为我们不具备先进的技术，等我们实现光刻机的技术突破至少还需要20年的时间。但是，截止目前我们已经在光刻机的各个零件上实现了突破，这次南大光电宣布7nm光刻胶通过验收的好消息有力的证明了这一点，总有一天我们一定能够生产出属于我们的第一台高端芯片制程的光刻机。

此次美国听到我们再一次在半导体领域取得先进的成就，恐怕只会更加坐不住。这已经打破了原先对于我们的预想，他们以为只要关闭了芯片进中国的大门，我们就会投降屈服，我们在能顶住压力，也持续不了太长的时间。可惜，这次美国的愿望终究是要落空了，此次的成功更是狠狠地给他们来了一拳。此次的成功，离不开国家对芯片行业的大量投入和科研人员的辛苦工作；而美国仗着自己在高端科技领域的龙头地位，就懈怠技术的进步和研究，把大量的资金全部都给了军队，芯片行业根本分不到一杯羹，这还怎么发展下去。假以时日，肯定会出现严重的问题。到时候，就给了我们迎头赶上的机会。

先前我们宣布已完成25nm的制作工艺时，美国的反应已经很强烈了。这次我们取得成就比之前更加卓越，只怕接下来他们会更加的着急吧。果然不出所料，他们又盯上了欧洲的芯片巨头——比利时微电子研究中心，试图再一次向中国施压。为了打击中国的芯片行业，美国可以说是不留余力了。

虽然我国的光刻机事业还停留在最开始的阶段，但是我们一直都在奋力前进，如今，我们又再一次7nm光刻胶上实现了技术性的突破，那么在未来我们研发高端制程芯片的时候，能够减少一定的困难。而且，中国目前已经自芯片的各个制作工艺上都取得了很大的进步，光刻机的诞生只是时间的问题。